이름 : 맹기룡

Tel : 031-750-8726

E-Mail : xrd1@gachon.ac.kr

물질을 구성하는 원자의 종류와 배열 상태에 따라 달라지는 X-선 회절각 및 강도를 측정하여 물질의 구조 정보를 정성·정량 분석하는 장비이다. 고출력(9kW) X-선 발생장치를 사용하여 범용 XRD에서 관찰하기 어려운 미량 성분 분석이 용이하고, 고정밀 다축 회전 시료대(Chi-Phi attachment & Z-axis), in-plane system을 포함하고 있어 conventional XRD 뿐만 아니라 박막 시료의 Grazing Incidence XRD(GID), In-Plane 측정 분석이 가능하여 박막 특성 평가 등 재료 소재 관련 분석이 가능하다. 분말 측정을 위한 Basic Optic system 뿐만 아니라 CBO(Cross Beam Optic)를 장착하여 불필요한 요소(Kβ line , Background 등)를 제거하고 Rough surface에 의한 Peak shift 방지 할 수 있으며, Ge(220) Crystal (monochromator)를 포함한 Parallel Beam Optic System과 300mm Radius Goniometere 등 고분해능 시스템(High Resolution System)을 갖추고 있다.

X선 발생장치출력 : 3KW(타겟물질 Cu ), 20-60kW, 2-60mA  

주요 광학계: Motorized Slit, 평행 X선 미러

2-바운스 단색화장치 

Goniometer 및 샘플 스테이지 : 4축, Z 축 모터 

적용 가능 샘플 : 분말, 단결정, 박막

- 분말, 단결정 및 박막의 상온 및 In-situ 고온 (~1000도) 상분석, 상변이 측정

- 시편의 방향성 및 격자상수 및 응력 측정, 나노분말 입도 및 결정성 측정

- X선 반사도 측정을 통한 두께, 전자밀도, 계면 및 표면 거칠기 측정

- 금속, 세라믹 소재의 상온, 고온 상분석 및 입도분석

- 유기물 및 반도체 다중박막의 두께 및 응력측정